奧林巴斯光譜儀作為檢測儀器，對于多種數(shù)據(jù)的準確性都應該是追求一絲不茍的，然而在操作中，總是會有問題出現(xiàn)，奧林巴斯光譜儀雖然本身測量準確度很高，但測定試樣中元素含量時，所得結(jié)果與真實含量通常不一致，存在一定誤差，并且受諸多因素的影響，有的材料本身含量就很低。下面就誤差的種類、來源及如何避免誤差進行分析。
　　首先了解誤差的性質(zhì)及產(chǎn)生原因，奧林巴斯光譜儀誤差可分為下面幾種：
　　1、系統(tǒng)誤差的來源
　　  1)標樣和試樣中的含量和化學組成不*相同時，可能引起基體線和分析線的強度改變，從而引入誤差。
　　  2)要消除系統(tǒng)誤差，必須嚴格按照標準樣品制備規(guī)定要求。為了檢查系統(tǒng)誤差，就需要采用化學分析方法分析多次校對結(jié)果。
　　  3)澆注狀態(tài)的鋼樣與經(jīng)過退火、淬火、回火、熱軋、鍛壓狀態(tài)的鋼樣金屬組織結(jié)構(gòu)不相同時，測出的數(shù)據(jù)會有所差別。
　　  4)未知元素譜線的重疊干擾。如熔煉過程中加入脫氧劑、除硫磷劑時，混入未知合金元素而引入系統(tǒng)誤差。
　　  5)標樣和試樣的物理性能不*相同時，激發(fā)的特征譜線會有差別從而產(chǎn)生系統(tǒng)誤差。
　　2、偶然誤差的來源
　　與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。因為光電光譜分析所消耗的樣品很少，樣品中元素分布的不均勻性、組織結(jié)構(gòu)的不均勻性，導致不同部位的分析結(jié)果不同而產(chǎn)生偶然誤差。主要原因如下：
　　  1)熔煉過程中帶入夾雜物，產(chǎn)生的偏析等造成樣品元素分布不均。
　　  2)試樣的缺陷、氣孔、裂紋、砂眼等。
　　  3)磨樣紋路交叉、試樣研磨過熱、試樣磨面放置時間太長和壓上指紋等因素。
　　  4)要減少偶然誤差，就要精心取樣，消除試樣的不均勻性及試樣的鑄造缺陷，也可以重復多次分析來降低分析誤差。
　　3、其他因素誤差
　　  1)室內(nèi)溫度的升高會增加光電倍增管的暗電流，降低信噪比。濕度大容易導致高壓元件發(fā)生漏電、放電現(xiàn)象，使分析結(jié)果不穩(wěn)定。
　　  2)氬氣不純。當氬氣中含有氧和水蒸氣時，會使激發(fā)斑點變壞。如果氬氣管道與電極架有污染物排不出去，分析結(jié)果會變差。
　　奧林巴斯光譜儀如何避免誤差：
　　  1)試樣表面要平整，當試樣放在電極架上時，不能有漏氣現(xiàn)象。如有漏氣，激發(fā)時聲音不正常。
　　  2)樣品與控制標樣的磨紋粗細要一致，不能有交叉紋，磨樣用力不要過大，而且用力要均勻，用力過大，容易造成試樣表面氧化。
　　  3)對高鎳鉻鋼磨樣時，要使用新砂輪片磨樣，磨紋操作要求更嚴格。
　　  4)真空度不夠高會降低分析靈敏度，特別是波長小于200nm的元素更明顯，為此要求真空度達0.05mmHg。
　　  5)電極的*應具有一定角度，使光軸不偏離中心，放電間隙應保持不變，否則聚焦在分光儀的譜線強度會改變。多次重復放電以后，電極會長尖，改變了放電間隙。激發(fā)產(chǎn)生的金屬蒸氣也會污染電極。所以必須激發(fā)一次后就用刷子清理電極。
　　  6)透鏡內(nèi)表面常常受到來自真空泵油蒸氣的污染，外表面受到分析時產(chǎn)生金屬蒸氣的附著，使透過率明顯降低，對波長小于200nm的碳、硫、磷譜線的透過率影響更顯著，所以聚光鏡要進行定期清理。
　　  7)試樣不能有偏析、裂紋、氣孔等缺陷，試樣要有一定的代表性。
　　  8)出射狹縫的位置變化受溫度的影響zui大，因此保持分光室內(nèi)恒溫30℃很重要，還要求室內(nèi)溫度保持一致，使出射狹縫不偏離正常。